電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)

電子ビーム蒸着装置ELECTRON BEAN EVAPORATION　EQUIPMENT


●概要・チャンバーサイズ及び、ポート数、フランジ規格、表面処理、排気系等は　ご所望に合わせ製作が可能です。・電子銃は最大6種類の試料充填が可能です。・各種装置への接続が可能です。
●装置構成・成膜室・EB電子銃・メインバルブ・成膜室用真空計・成膜室用排気系・架台		●オプション・基板加熱・回転駆動機構 ●電子ビーム蒸着装置(カタログ)
●仕様成膜室　　　到達真空度：1.0×10^-4Pa以下　　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品電子銃　　　　　電子銃：2kw3連E型電子銃　　　　　　　　　電源：2Kw

〒559-0011
大阪市住之江区北加賀屋4-3-24


●概要・チャンバーサイズ及び、ポート数、フランジ規格、表面処理、排気系等は　ご所望に合わせ製作が可能です。・電子銃は最大6種類の試料充填が可能です。・各種装置への接続が可能です。
●装置構成・成膜室・EB電子銃・メインバルブ・成膜室用真空計・成膜室用排気系・架台		●オプション・基板加熱・回転駆動機構 ●電子ビーム蒸着装置(カタログ)
●仕様成膜室　　　到達真空度：1.0×10^-4Pa以下　　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品電子銃　　　　　電子銃：2kw3連E型電子銃　　　　　　　　　電源：2Kw